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浦口举办国际先进光刻技术研讨会

南报网讯

(通讯员 林静记者 鲁舒婷) 10月17日,第三届国际先辈光刻技巧研讨会在浦口召开。来自中国、美国、德国、日本等天下各地浩繁名企、厂商、科研机构、高校的共计400余技巧专家和钻研职员参加了本次会议。

作为海内独一的高端光刻技巧研讨会,国际先辈光刻技巧研讨会已继续举办两届,已经成为共享国内外先辈光刻技巧研发和成果、为我国集成电路制造研发与利用开展相助与交流的高端峰会议。会上,来自Intel、IBM、ASML、Mentor等公司的特邀贵宾分手环抱主题做了特邀申报,深入阐发了光刻领域先辈节点最新的技巧手段和办理规划,包括7nm及以下先辈节点的谋略光刻技巧、光刻设备、材料等。

近年来,跟着集成电路财产的发告竣长,我国在EUV光源、多层膜、掩膜、光刻胶、超滑腻抛光技巧等方面取得了一些钻研进展,但光刻技巧方面仍与国外有着较大年夜差距。“要赓续经由过程政策支持和系统体例立异,才能推动我国集成电路财产成长达到一个新的高度。”与会专家纷繁表示。

今朝,南京已明确了集成电路财产的总体结构:即 “一核、两翼、三基地”。此中“一核”即指以江北新区为核心,重点打造具有国际影响力的集成电路财产基地。而浦口区就是这“一核”的紧张载体,已集聚了总投资30亿美元的台积电、800亿元的清华紫光、80亿元的天水华天等财产链高低游关联企业169家,初步形成了设计、制造、封装、测试的全财产链闭环,成功创建“江苏省集成电路财产基地”。

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